A self-propagating system for Ge incorporation into nanostructured silica

文献情報

出版日 2008-08-04
DOI 10.1039/B804955F
インパクトファクター 6.222
著者

Aubrey K. Davis, Mark Hildebrand


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要旨

Technologically-relevant levels of Ge can be incorporated into cell wall silica of the diatom Thalassiosira pseudonana with no aberration in structure at low levels, whereas higher levels alter structure.

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