4'-Propyl-4-biphenylcarbonitrile（CAS番号：58743-76-3）
4'-Propyl-4-biphenylcarbonitrile
基本情報
CAS番号
58743-76-3
分子式
C16H15N
分子量
17.03 g/mol
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基本的な物理特性
融点
65.0 to 67.0 deg-C
安全情報
安全情報を表示GHS危険象形図
H311
H332H315H319H335
H304危険性の表示
H311
皮膚に接触すると有毒
急性毒性（経皮）
急性毒性（経皮）
H332
吸入すると有害
急性毒性（吸入）
急性毒性（吸入）
H315
皮膚刺激
皮膚腐食性/刺激性
皮膚腐食性/刺激性
H319
強い眼刺激
眼に対する重篤な損傷性/眼刺激性
眼に対する重篤な損傷性/眼刺激性
H335
呼吸器への刺激のおそれ
特定標的臓器毒性（単回ばく露）；気道刺激性
特定標的臓器毒性（単回ばく露）；気道刺激性
H304
飲み込んで気道に侵入すると生命に危険のおそれ
吸引性呼吸器有害性
吸引性呼吸器有害性
危険物区分
Class 6.1
Class 6.1
同義語と引用データ
英語
- DS-15533
- 4'-Propylbiphenyl-4-carbonitril
- SCHEMBL2041798
- 4-(4-propylphenyl)benzonitrile
- J-515969
- (1,1'-Biphenyl)-4-carbonitrile, 4'-propyl-
- FT-0640549
- 58743-76-3
- [1,1'-Biphenyl]-4-carbonitrile, 4'-propyl-
- 4-Propyl-[1,1'-biphenyl]-4'-carbonitrile
- DTXSID7069285
- 4'-Propyl-[1,1'-biphenyl]-4-carbonitrile
- XFMPTZWVMVMELB-UHFFFAOYSA-N
- MFCD00505987
- 4'-Propyl[1,1'-biphenyl]-4-carbonitrile
- CS-W014732
- EINECS 261-415-2
- 4-Cyano-4'-n-propylbiphenyl
- AMY25183
- NS00034009
- 4-Cyano-4 inverted exclamation marka-propylbiphenl
- AKOS015914666
- 4-Propyl-4'-cyanobiphenyl
- 4'-Propyl-4-biphenylcarbonitrile
- 4-Cyano-4'-propylbiphenyl
- SB66819
- 4'-Propylbiphenyl-4-carbonitrile
- 4'-Propyl(1,1'-biphenyl)-4-carbonitrile
- 4'-Propyl[1,1'-biphenyl]-4-carbonitrile #
- C2764
- 4-Cyano-4'-Propyl Biphenyl
MDL番号
MFCD00505987
税関コード
2926909090
よくある質問
4-氰基-4'-丙基联苯に適用される法規ガイドラインは何ですか？
CAS番号58743-76-3の化合物4-氰基-4'-丙基联苯は、GHS（全球化化学品統一分类和标签制度）に基づく有害性分類、REACH（化学品注册、评估、授权和限制）規則、FDA（米国食品医薬品局）とEPA（米国環境保護庁）の関連規定に従って管理される必要があります。これらの法規は、安全データシート（SDS）の作成と提供、使用時の安全措置、廃棄処理方法を定めています。
4-氰基-4'-丙基联苯の代替品はありますか？
4-氰基-4'-丙基联苯の代替品としては、他のアリル炭酸エステル化合物や、有機合成で使用される類似化合物などがあります。代替品の選択は、目的化合物の特性、安全性、コスト、製造可能性などによるものです。
4-氰基-4'-丙基联苯の市場動向や研究トレンドはどうですか？
4-氰基-4'-丙基联苯は、有機合成化学分野で重要な触媒剤や還元剤として使用されています。市場動向は、新興国での化学産業の成長と、環境に優しい代替品の開発に注目が集まっています。研究トレンドとしては、この化合物の新たな用途探索や、より安全で効率的な製造プロセスの開発が進んでいます。
4-氰基-4'-丙基联苯を含む廃棄物はどのように処理すべきですか？
4-氰基-4'-丙基联苯の廃棄物は、収集後、専門の廃棄処理業者に委託して焼却または化学処理することを推奨します。処理の際は、安全データシート（SDS）に基づき、適切な防護措置を講じて操作し、環境への影響を最小限に抑えます。廃棄物の保管は、避けて光から遠ざけて、低温かつ乾燥した場所が必要です。
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