Hafnium oxide (HfO2)（CAS番号：12055-23-1）
ハフニウム氧化物（HfO2）
基本情報
CAS番号
12055-23-1
分子式
HfO2
分子量
210.48 g/mol
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基本的な物理特性
融点
2780 ºC
沸点
°Cat760mmHg
水溶性
Insoluble in water.
屈折率
2.13 (1700 nm)
同義語と引用データ
英語
- Hafnium(IV) oxide, Spectrographic Grade
- Hafnium Oxide Powder
- Hafnotrast
- DTXSID70893204
- dioxohafnium
- Hafnia (HfO2)
- NS00130065
- NSC158931
- Hafnium(IV) Oxide, Lump
- Hafnium oxide (HfO2)
- Hafnium dioxide
- D95076
- Hafnium dioxide (HfO2)
- Hafnium oxide
- UNII-3C4Z4KG52T
- Hafnium(IV) oxide, pellets, diam. x thickness 13 mm x 5 mm
- Hafnium(IV) oxide, powder, 98%
- MFCD00003565
- 12055-23-1
- Hafnia
- 37230-85-6
- Hafnium(IV) oxide, >=99.95%
- Hafnium(IV) oxide
- AKOS015903694
- Q418740
- EINECS 235-013-2
- CS-0198879
- Hafnium(IV) oxide, pellets, diam. x thickness 9 mm x 4.2 mm
- EC 235-013-2
- Niobium Carbide (NbC) Powder
- NSC 158931
MDL番号
MFCD00003565
よくある質問
HfO2の物理化学的性質は何ですか？
HfO2（氧化铪）は、白色の結晶性粉末で、分子量は238.12 g/molです。この化合物は難溶性で、酸と反応します。反応活性は比較的低いです。
HfO2はどのように合成されますか？
HfO2は、铪金属と酸素の直接反応、または铪の化合物と酸素の熱分解反応によって合成されます。一般的には、铪の塩類と酸素の還元反応による方法が用いられます。
HfO2はどの業界で使用されていますか？
HfO2は、半導体産業で使用され、特に高効率のトランジスタやメモリデバイスの材料として重要です。また、ポリマー、センサー、医薬分野で使用されています。
HfO2を取り扱う際の実験室安全事項は何ですか？
HfO2は無害ですが、吸入を避けるため、密閉のドラフトチャンバーを使用します。PPEとして、防塵マスクと安全手袋を使用します。漏洩時には、適切な漏洩処理材を使用し、SDSを参照してください。保存は乾燥した場所で、直射日光を避けて保存してください。
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