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Hexamethoxydisilane(CAS: 5851-07-0)

Hexamethoxydisilane
CAS番号

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基本情報

分子式
C6H18O6Si2
分子量
242.38 g/mol

Physical Properties

沸点
98°C/20mmHg
引火点
36.7°C

化学識別子

SMILES
CO[Si](OC)(OC)[Si](OC)(OC)OC
InChIKey
LMQGXNPPTQOGDG-UHFFFAOYSA-N

データベース参照

MDL番号
MFCD00271005

よくある質問

CAS番号5851-07-0の六甲氧基二硅烷は、無色の液体で、沸点は約65.5℃、分子量は約228.28です。この化合物は水 insoluble で、空気中の酸素との反応性があります。
六甲氧基二硅烷は、メタキシジシランとメタオキシル化反応を伴う複雑な合成プロセスで生成されます。この反応は触媒を使用して進行し、選択性と収率が高くなります。
六甲氧基二硅烷は、医薬品、ポリマー、センサー、半導体などの業界で使用されています。特に、半導体産業では、薄膜形成や処理プロセスに使用されます。
六甲氧基二硅烷は吸入、食道、皮膚に刺激を引き起こす可能性があります。実験室では、PPE(保護用具)を着用し、ドラフトチャンバーを使用して漏洩を処理します。SDS(安全データシート)を参照し、適切な処理方法を確認してください。

安全に関するお知らせ

使用前に製品仕様と安全データを確認してください。詳細な安全情報については、サプライヤーにお問い合わせください。

常に適切な取り扱い手順に従ってください

連絡先情報

担当者

サムロ

メール

2892064327@qq.com

携帯電話

18516530597

ウェブサイトを訪問

http://www.qmsilicon.com/

住所

上海市浦東新区円通路128号