Nanoscale silicon surface-assisted laser desorption/ionization mass spectrometry: environment stability and activation by simple vacuum oven desiccation

文献情報

出版日 2016-06-13
DOI 10.1039/C6AN00659K
インパクトファクター 4.616
著者

Chia-Wen Tsao, Yuan-Jing Lin, Pi-Yu Chen, Yu-Liang Yang, Say Hwa Tan


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要旨

Nanoscale silicon surface-assisted laser desorption/ionization mass spectrometry (SALDI-MS) is an emerging matrix-free, highly sensitive MS analysis method. An important challenge in using nanoscale silicon SALDI-MS analysis is the aging and stability of silicon after storage in various environments. No proper nanoscale silicon SALDI-MS activation procedure has been reported to solve this issue. This study investigated the sensitivity, wettability, and surface oxidation behavior of nanoscale silicon surface SALDI-MS in a room, an inert gas atmosphere, and a vacuum environment. A simple vacuum oven desiccation was proposed to activate the SALDI-MS surface, and the limit of detection was further enhanced 1000 times to a 500 attomole level using this approach. The long-term stability and desorption/ionization mechanism were also investigated.

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